PHOTON ENERGY, CEPHEUS, Laser Markiersystem mit UKPL (ultrakurzpuls) Pikosekundenlaser

PHOTON ENERGY GmbH produziert OEM Laserstrahlquellen für die industrielle Lasermaterialbearbeitung und für Lasermarkieranlagen.

Ultrakurzpuls-Pikosekundenlaser für ausserordlich hohe Markierkontraste und Mikrobearbeitung

PHOTON ENERGY, CEPHEUS, Laser Markiersystem mit UKPL (ultrakurzpuls) Pikosekundenlaser

Um ausserordentlich hohe Markierkontraste zu erhalten und um annähernd alle Materialien bearbeiten zu können, hat PHOTON ENERGY den Pikosekundenlaser CEPHEUS entwickelt. Die grossen Vorteile von Markierungen mit diesem diodengepumpten, modengekoppelten Festkörperlaser sind die ultrakurzen Pulsdauern des Energiestrahls. Diese ermöglichen nichtlineare Multiphotonen- Absorptionsprozesse, welche die Materialbearbeitung weitgehend unabhängig von der Laserwellenlänge macht. Mit anderen Worten, die einzigartige Qualität von Markierungen auf verschiedensten Materialien ist massgeblich von dieser extrem kurzen Pulsdauer in Kombination mit der hohen Pulsspitzenleistung abhängig, bei welcher annähernd keine Temperaturveränderung auf der Oberfläche stattfindet.

Dies bedeutet, dass nahezu alle Materialien bearbeitet werden können, sogar solche, die bei der Laserwellenlänge transparent sind. Ein weiterer Vorteil der ultrakurzen Laserpulse ist die „kalte Ablation“ des Materials, welche nicht auf der Erzeugung von Wärme, wie beispielsweise bei Nanosekundenlasern, basiert. Die erzeugte Nanostruktur an der Oberfläche dient als Lichtfalle, wodurch ein deutlich erhöhter Kontrast und auch ein höherer Schwarzwert erreicht werden. Weiter gibt es keinen reflektierenden Blickwinkel (glänzen) welcher verursacht, dass bei wechselndem Lichteinfalls- und Betrachtungswinkel die Markierung in variierendem Kontrast oder verändernder Farbe erscheint. Die Markierung ist somit immer matt schwarz. Ein weiterer Vorteil der Bearbeitung mit dem CEPHEUS ist die hydrophobe Eigenschaft der Markierung. Flüssigkeiten werden durch die Nanostruktur generell abgestossen, was zu deutlich höherer Korrosionsbeständigkeit selbst bei chemischen Reinigungs- und Sterilisierungsprozessen führt.

Deshalb verwendet man den CEPHEUS Pikosekundenlaser von PHOTON ENERGY für alle Laserbearbeitungsprozesse, bei denen Schädigung durch Schmelzen, Verformung oder Verfärbung aufgrund von Wärmeeintrag unerwünscht sind und eine maximale optische Stabilität der Markierung verlangt wird.

Der CEPHEUS hat die höchste, auf dem Markt erhältliche Pulsspitzenenergie und sorgt damit für einen geringeren Materialabtrag pro Laserpuls. Dies erhöht die Präzision deutlich, was in schärferen Markierkanten und präziserer Materialbearbeitung resultiert.

Zusammenfassend kann man sagen, dass die Markierungen mit dem CEPHEUS von PHOTON ENERGY gegenüber anderen UKPL und länger pulsenden Lasern wie zum Beispiel Nanosekunden-Faserlaserquellen oder Nd:YAG-Lasern folgende Vorteile haben. Schnellere Markierung durch höhere Pulsspitzenleistungen und kürzere Pulse

1. Gleichmässigere Markierung durch Oberflächenstrukturveränderung (Lichtfalle) anstatt Anlassbeschriftung mittels Energieeintrag durch Temperatur
2. Gleichbleibender Kontrast (Lichtfalle) bei änderndem Lichteinfalls- und Betrachtungswinkel
3. Höhere Beständigkeit der Markierung bei abrasiver, chemischer und Strahlenbelastung
4. Kein Verblassen oder Korrodieren der Markierung bei Passivierung, Sterilisation und Autoklavierung
5. Annähernd alle Materialien können markiert werden, auch dünne Folien, alle Metalle, alle Buntmetalle, alle Edelmetalle, alle Thermoplaste, alle Duroplaste, die meisten Elastomere, Glas (Oberfläche oder im Glas ohne Oberflächenbeschädigung), Diamant, Lackschichten, etc.
6. Oberfläche der Markierung besitzt hydrophobe (wasserabweisende) Eigenschaften
7. Validierte, FDA konforme Kurzpulsmarkierung

Wir hoffen, mit diesen Informationen Ihr Interesse geweckt zu haben. Bitte kontaktieren Sie mich jederzeit bei Fragen, zur Abstimmung eines Besuchstermins und zur Koordination von Mustermarkierungen.